Hitachi High-Tech (Shanghai) Nemzetközi Kereskedelmi Co., Ltd.
Otthon>Termékek>Teljesen automatizált atomerős mikroszkóp AFM5500M
Teljesen automatizált atomerős mikroszkóp AFM5500M
Az AFM5500M egy teljesen automatizált, 4 hüvelykes automatikus motorállomással felszerelt atomerős mikroszkóp, amely jelentősen javította a működési k
A termék adatai

Teljesen automatizált atomerős mikroszkóp AFM5500M

  • Tanácsadás
  • Nyomtatás

全自动型原子力显微镜 AFM5500M

Az AFM5500M egy teljesen automatizált, 4 hüvelykes automatikus motorállomással felszerelt atomerős mikroszkóp, amely jelentősen javította a működési képességet és a mérési pontosságot. A berendezés teljesen automatizált működési platformot biztosít a karcserében, a lézerpárokban, a tesztparaméterek beállításában stb. Az újonnan kifejlesztett nagy pontosságú szkennerek és az alacsony zajú 3 tengelyes érzékelők jelentősen javítják a mérési pontosságot. Ezenkívül a SEM-AFM segítségével megosztott koordináta mintasztalok egyszerűen lehetővé teszik a kölcsönös megfigyelést és elemzést ugyanazon látóterületen.

CL SLD Auto SIS RealTune®II

  • Ikon leírás

Gyártó: Hitachi High-tech Science

  • Jellemzők

  • paraméterek

  • Movie

  • Alkalmazási adatok

Jellemzők

1. Automatizálási funkciók

  • Nagyon integrált automatizálási funkciók a hatékony vizsgálatok érdekében
  • Az emberi hibák csökkentése a vizsgálatban

4英寸自动马达台
4 hüvelykes automatikus motorállomás

自动更换悬臂功能
Automatikus karcsere

2. Megbízhatóság

Mechanikai okokból eredő hibák kizárása

Nagy körű vízszintes szkennelés
A csőképű szkenner atomerős mikroszkópja általában szoftveres korrekcióval kapja meg a síkdatat a szkenner köríves mozgásából származó kanyarra vonatkozóan. A szoftveres korrekcióval azonban nem lehet teljesen eltávolítani a szkenner köríves mozgásának hatását, és gyakran fordul elő torzítás a képen.
Az AFM5500M a legújabb fejlesztett vízszintes szkennerrel rendelkezik, amely pontos tesztelést tesz lehetővé a köríves mozgás hatása nélkül.

Sample :Amorphous silicon thin film on a silicon substrate

Sample :Amorphous silicon thin film on a silicon substrate

Kiváló pontosságú szögmérés
A szokásos atomerős mikroszkópok által használt szkennerek függőlegesen húzódáskor hajlítódnak (crosstalk). Ez a közvetlen oka annak, hogy a kép vízszintes irányba alakul ki.
Az AFM5500M-ben szereplő új szkenner függőleges irányban nem hajlít meg (crosstalk), így a vízszintes irányban megfelelő képeket kaphat torzítás nélkül.

Textured-structure solar battery

Sample : Textured-structure solar battery(having symmetrical structure due to its crystal orientation.)

  • * AFM5100N (nyitott gyűrű vezérlés) használata esetén

3. Integráció

Egyéb vizsgálati módszerek közeli integrációja

A SEM-AFM megosztott koordinátasztalával gyorsan megfigyelhető és elemezhető a minta felületi alakja, szerkezete, összetétele, fizikai tulajdonságai stb.

Correlative AFM and SEM Imaging

SEM-AFM megfigyelési példa ugyanazon a látókörben (minta: grafén / SiO)2

The ovrlay images createed

The ovrlay images createed by using AZblend Ver.2.1, ASTRON Inc.

A fenti kép az AFM5500M által készített alakkép (AFM-kép) és a potenciális kép (KFM-kép) és a SEM-kép átfedésének alkalmazási adatai.

  • Az AFM képek elemzésével megállapítható, hogy a SEM kontraszt jellemzi a grafén réteg vékonyságát.
  • A különböző grafén rétegek száma a felületi potenciál (funkció) kontrasztját okozza.
  • A SEM képek kontrasztja eltérő, és ennek oka megtalálható az SPM nagy pontosságú 3D morfológiai mérésével és fizikai tulajdonságainak elemzésével.

A jövőben más mikroszkópokkal és elemző eszközökkel való együttműködést terveznek.

paraméterek

AFM5500M fogadó
Motorállomás Automatikus precíziós motorállomás
Maximális megfigyelési távolság: 100 mm (4 hüvelyk)
Mozgatási tartomány: XY ± 50 mm, Z ≥ 21 mm
Minimális távolság: XY 2 µm, Z 0,04 µm
Maximális mintameret Átmerő: 100 mm (4 hüvelyk), vastagság: 20 mm
Minta súlya: 2 kg
Szkennelési tartomány 200 µm x 200 µm x 15 µm (XY: zárt körű vezérlés / Z: érzékelőfelügyelet)
RMS zajszint* 0,04 nm alatt (nagy felbontású mód)
Visszaállítási pontosság* XY: ≤15 nm (3σ, 10 μm mérési szabványos távolság) / Z: ≤1 nm (3σ, 100 nm mérési szabványos mélység)
XY egyenes szög ±0.5°
BOW* 2 nm/50 µm alatt
Észlelési mód Lézeres érzékelés (alacsony interferencia optikai rendszerek)
Optikai mikroszkóp Nagyítási arány: x1-x7
Látótér: 910 µm x 650 µm - 130 µm x 90 µm
Kijelző nagysága: x465 - x3255 (27 hüvelykes kijelző)
Remegcsökkentő Asztali aktív sugárcsökkentő 500 mm (W) x 600 mm (D) x 84 mm (H), körülbelül 28 kg
Hangvédő 750 mm(W) x 877 mm (D) x 1400 mm(H)、 körülbelül 237 kg
Méret és súly 400 mm(W) x 526 mm(D) x 550 mm(H)、 körülbelül 90 kg
  • * A paraméterek a készülék konfigurációjától és elhelyezési környezetétől függnek.
AFM5500M Speciális atomerős mikroszkóp munkaállomás
OS Windows7
RealTune ® II Automatikus beállítás a karszélességre, érintkezésre, szkennelési sebességre és a jelvisszajelzésre
Műveleti képernyő Működési navigáció, több ablak megjelenítése (tesztelés/elemzés), 3D képfelfedés, szkennelési tartomány/mérési önéletrajz megjelenítése, adatfeldolgozási elemzés, szonda értékelés
X, Y, Z szkennelés meghajtó feszültség 0~150 V
Idős teszt (pixelpontok) 4 kép (max. 2048 x 2048)
2 kép (max. 4096 x 4096)
Téglalap szkennelés 2:1, 4:1, 8:1, 16:1, 32:1, 64:1, 128:1, 256:1, 512:1, 1024:1
Elemző szoftver 3D-s megjelenítés, durvaságelemzés, szakaszelemzés, átlagos szakaszelemzés
Automatikus vezérlés Automatikus karcsere, automatikus lézerpározás
Méret és súly 340 mm(W) x 503 mm(D) x 550 mm(H)、 körülbelül 34 kg
áramellátás AC100 ~ 240 V ± 10% AC
Tesztelési mód Szabványos: AFM, DFM, PM (fázis), FFM opciók: SIS morfológia, SIS fizikai tulajdonságok, LM-FFM、VE-AFM、Adhesion、Current、Pico-Current、SSRM、PRM、KFM、EFM(AC)、EFM(DC)、MFM
  • * A Windows az Egyesült Államokban és az Egyesült Államokon kívüli országokban a Microsoft Corporation bejegyzett védjegye.
  • * A RealTune Japánban, az Egyesült Államokban és Európában a Hitachi High Tech cég bejegyzett védjegye.
Opció: SEM-AFM csatlakozó rendszer
Alkalmazható Hitachi SEM modellek SU8240, SU8230 (H36 mm-es típus), SU8220 (H29 mm-es típus)
Mintalasztály mérete 41 mm(W) x 28 mm(D) x 16 mm (H)
Maximális mintameret Φ20 mm x 7 mm
Központos pontosság ±10 µm (AFM pontosság)

Movie

Alkalmazási adatok

  • A SEM-SPM megosztja a koordinátákat a grafén/SiO megfigyelésére ugyanazon a látókörben2(PDF formátumban, 750 kbyte)

Alkalmazási adatok

A szkennelő szonda mikroszkóp alkalmazási adatainak bemutatása.

Leírás

Elmagyarázza a szkennelő alagúti mikroszkóp (STM) és az atomerős mikroszkóp (AFM) elveit és a különböző állapotalapelveket.

Történet és SPM fejlődés

Leírja szkennelőszonda mikroszkópunk és berendezéseink történetét és fejlődését. (Global site)

Online érdeklődés
  • Kapcsolatok
  • Társaság
  • Telefon
  • E-mail
  • WeChat
  • Ellenőrzési kód
  • Üzenet tartalma

Sikeres művelet!

Sikeres művelet!

Sikeres művelet!